想知道光学膜厚仪在行业中都有哪些经典应用吗？

　　光学膜厚仪是利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。光学膜厚仪根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。

　　应用领域：

　　半导体制造业，光刻胶、氧化物、硅或其他半导体膜层的厚度测量；

　　生物医学原件：聚合物/聚对二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入药物涂层；

　　微电子：光刻胶；硅膜；氮化铝/氧化锌薄膜滤镜；

　　液晶显示器：盒厚；聚酰亚胺；导电透明膜；

　　由于是光学测量，在测量时候无须担心破坏样品，让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。

光学膜厚仪的优点：

　　1、非接触式测量：光学膜厚仪采用的原理是通过光的反射原理对膜层厚度进行测量，属于非接触式测量方法，不会对样品造成任何损伤，能够保证样品的完整性。

　　2、测量数据多样：可以测得物体的膜厚度和n，k数据，这是其它类型的膜厚仪所不具备的特点。

　　3、测量快速：光学膜厚仪的测量过程非常快速，因为该设备采用了先进的结构设计，能够ji大程度的提升测量效率，相比于其他类型膜厚测量设备来说显得非常轻巧方便。

　　4、适用范围广：光学膜厚仪的适用范围非常广泛，从普通家用到工厂的工业生产，再到大学实验室和科学研究所，都可以看到它的身影，由此可见它的使用范围极其广泛，能够作业的场合也变得更加多样化。