纳米压印机在日常使用中具有众多特征

dota2雷竞技 具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，支持尺寸从碎片到最大150毫米。

　　该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。纳米压印机提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

　　对于压印工艺，本产品允许基板的尺寸从小芯片尺寸到直径150毫米不等。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括印章的释放机制。本产品专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘设计既支持软印章也支持硬印章。

　　特征：

　　1、顶部和底部对准能力；

　　2、高精度对准台；

　　3、自动楔形误差补偿机制；

　　4、电动和配方控制的曝光间隙；

　　5、支持最新的UV-LED技术；

　　6、最小化系统占地面积和设施要求；

　　7、分步流程指导；

　　8、远程技术支持；

　　9、多用户概念；

　　10、敏捷处理和光刻工艺之间的转换；

　　11、台式或带防震花岗岩台的单机版。