光学膜厚仪是一种非接触式测量仪器，一般会运用在生产厂商大量生产产品的过程，由于误差经常会导致产品全部报废，这时候就需要运用光学膜厚仪来介入到生产环境，避免这种情况的发生。
典型应用领域：
半导体制造业，光刻胶、氧化物、硅或其他半导体膜层的厚度测量；
生物医学原件：聚合物/聚对二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入药物涂层；
微电子：光刻胶；硅膜；氮化铝/氧化锌薄膜滤镜；
液晶显示器：盒厚；聚酰亚胺；导电透明膜。
仪器的使用优点：
1、测量数据多样：可以测得物体的膜厚度和n，k数据，这是其它类型的膜厚仪所不具备的特点；
2、测量快速：光学膜厚仪的测量过程非常快速，因为该设备采用了先进的结构设计，能够极大程度的提升测量效率，相比于其他类型膜厚测量设备来说显得非常轻巧方便；
3、非接触式测量：光学膜厚仪采用的原理是通过光的反射原理对膜层厚度进行测量，属于非接触式测量方法，不会对样品造成任何损伤，能够保证样品的完整性；
4、适用范围广：光学膜厚仪的适用范围非常广泛，从普通家用到工厂的工业生产，再到大学实验室和科学研究所，都可以看到它的身影，由此可见它的使用范围极其广泛，能够作业的场合也变得更加多样化。
光学膜厚仪的使用注意事项：
1、零点校准：在每次使用膜厚仪之前需要进行光学校准，因为之前的测量参数会影响该次对物体的测量，零点校准可以消除前次测量有参数的影响，能够降低测量的结果的误差，使测量结果更加精确。
2、基体厚度不宜过薄：在使用光学膜厚仪对物体进行测量时基体不宜过薄，否则会极大程度的影响仪器的测量精度，造成数据结果不准确，影响测量过程的正常进行。
3、物体表面粗糙程度：对于被测物体的表面不宜太过粗糙，因为粗糙的表面容易引起光的衍射，降低了光学膜厚仪的测量精度，造成很大的误差。所以被测物体的表面应该尽量保持光滑，以保证测量结果的精确性。
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