详细介绍
列真株式会社自创业以来,秉承“挑战"、“创造"、“诚实"的经营理念,为顾客提供可靠、可信的产品和服务。运用激光扫描技术,专门制造、销售半导体材料表面及内部检查、石英玻璃表面检查等检查装置。其激光检测技术可同时收集激光的反射光,透射光以及共聚焦,可一次性检查第三代半导体SIC等材料表面,背面和内部的缺陷,可探测最小缺陷为100纳米,主要用于半导体光罩、LCD大型光罩的石英玻璃表面、内部、背面的缺陷检查。
特征:
SiC单晶晶圆和EPI晶圆都可以检查。
不仅是表面缺陷,内部缺陷和背面缺陷也同时检查。
有助于缺陷分析的4种Review图像。
“AI Classify”进行缺陷分类、好坏判定。
免维护。
世界FIRST用反射散射光、透射散射光、共聚焦光的混合检查装置。
能检出至今为止检查不出的缺陷。
规格:
检查激光 | 405nm 200mW |
检查时间 | 200sec(尺寸:4英寸) |
检查对象 | 2英寸、3英寸、4英寸、6英寸 |
设备尺寸 | WxDxH=450x500x730mm |
使用电源 | AC100V~200V 10A |
应用:
SiC、GaN
半导体光罩(石英玻璃与涂层)
石英Wafer Si Wafer
HDD Disk LT Wafer
蓝宝石衬底
EUV光罩
光罩防尘膜
可全面检测表面、内部、背面的缺陷。
检出缺陷:颗粒、划痕、结晶缺陷。
外延缺陷 衬底缺陷
胡萝卜型缺陷 六方空洞缺陷
慧星缺陷 层错缺陷
三角缺陷 微管缺陷
边缘缺陷
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