分步重复纳米压印光刻机

简要描述：我们的EVG770分步重复纳米压印光刻机是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面积均匀地复制模板。结合金刚石车削或直接写入方法，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。

产品型号：EVG770 NT
厂商性质：代理商
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更新时间：2024-01-19
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1. 简介

我们的EVG770分步重复纳米压印光刻机是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面积均匀地复制模板。结合金刚石车削或直接写入方法，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。

2. 主要应用

主要使用连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作（例如：微镜头制作）。

3. 特色

EVG770的主要功能包括精确的对准功能，全缅的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。

4. 参数特征

1）高效的晶圆级光学微透镜主制造，直至SmartNIL的纳米结构®

2）简单实施不同类型的主机

3）可变抗蚀剂分配模式

4）分配，压印和脱模过程中的实时图像

5）用于压印和脱模的原位力控制

6）可选的光学楔形误差补偿

7）可选的自动盒带间处理

5. EVG770技术数据

1）晶圆直径（基板尺寸）：100至300毫米

2）解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）

3）支持的工艺：软UV-NIL纳米压印

4）曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm²

5）对准：顶面显微镜，用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm

6）弟一个印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

7）有效印记区域：长达50 x 50毫米

8）自动分离：支持

9）预处理功能：涂层：液滴分配（可选）

6. 纳米压印工艺结果

晶圆级微透镜制造

图1 微镜头

纳米压印结果（100纳米分辨率）

图2 纳米压印结果（100纳米分辨率）

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