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EVG720 系统利用 EVG 创新的 SmartNIL 技术和材料专业知识,实现微米级和纳米级结构的大规模制造。EVG720 系统采用 SmartNIL 技术,能够在大面积上打印小至 40 nm* 的纳米结构,具有较大的吞吐量和较低的拥有成本,非常适合下一代微流控和光子器件(如衍射光学元件 (DOE))的批量生产。
*分辨率取决于工艺和模板
特点
· 具有复制保真度的批量验证印记技术
· 成熟的SmartNIL技术与多用途聚合物冲压技术®
· 集成压印,UV固化脱模,和工作印章制作
· 自动磁带到磁带处理加上半自动化的研发模式
· 可选的顶部对齐
· 可选的迷你环境
· 开放平台的所有商业可用的印记材料
· 从研发到生产的可扩展性
· 系统外壳,最佳的过程稳定性和可靠性
技术数据
晶圆直径(衬底尺寸):75至150毫米
分辨率:≤ 40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
过程支持:SmartNIL®
曝光源:大功率LED(i-线)> 40mW/cm²
对齐:可选顶部对中
自动分离:支持
迷你环境和气候控制:可选
工作印章制作:支持
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