椭圆偏振仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量设备。由于并不与样品接触，对样品没有破坏且不需要真空。可测的材料包括：半导体、电介质、聚合物、有机物、金属、多层膜物质。可以应用于半导体、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科研、生物、医药等领域。主要功能：测量样品的偏振参量信息等，可用于在线监测，也可用于离线的样品测试；可使用不同大小的光斑探测样品。椭圆偏振仪的调整要点主要步骤：1、调整分光计；2、调共轴（注意：用校光片，先不放检偏器调，可以用白纸防在望远...

白光干涉仪是一款用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量的检测仪器。它是以白光干涉技术为原理、结合精密Z向扫描模块、3D建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量的光学检测仪器。仪器可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。...

3D划痕仪使用了超新的划痕头和高分辨率的3D形貌仪，能够让用户进行标准的划痕测试，并在测试前后自动进行亚纳米级的3D成像。划痕试验用于评估涂层和固体表面的粘附性和耐刮擦性。测试在受控的力下对样品表面进行划擦，划痕头在递增、恒定或台阶增力的载荷下沿着样品表面移动。通过检测摩擦力、位移和声发射等信号以及利用3D成像技术来检测涂层破损。3D划痕仪采用大速比大输出扭矩齿轮减速箱，以保证在不同测试负载下划针移动速度恒定，使测试结果具有较高的精度。本仪器目前可以做的是两种底材的试验。一种...

掩模对准曝光机又名光刻机，用光来制作一个图形工艺，将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时复制到硅片上的过程。半导体制造过程中复杂也是难的步骤就是光刻，光刻机也因此成为重要的半导体制造设备，研发的技术门槛和资金门槛非常高，是复杂的机器之一。掩模对准曝光机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD...

随着时代的进步，集成电路科技的进步与发展，对光刻工艺的精度提出了更高的要求。传统的光刻工艺难以满足如此的精度要求。接触式光刻机性能的提高势在必行。提高接触式光刻机性能的关键技术：接触式光刻机将图形从掩模上复制到硅片上的若干参数决定了其主要性能。目前行业内被普遍接受的光刻机三大性能参数是光刻分辨率、套刻精度和产率。近年来，提高光刻机性能的新技术不断涌现，光刻分辨率和套刻精度的提高推动光刻技术步入更小的节点，产率的提高为集成电路制造厂商带来更高的经济利益。下面主要讨论提高光刻机性...