新型IQ Aligner NT具有高强度和高均匀度的曝光光学器件，新的晶圆处理硬件，可实现全局多点对准的200mm和300mm晶圆全覆盖范围以及优化的工具软件，从而使生产率提高了2倍与EVG上一代IQ Aligner相比，对准精度提高了2倍。该系统超越了晶圆凸块和其他后端光刻应用的蕞苛刻要求，同时与竞争系统相比，拥有成本降低了30％。

EVG620 NT-掩模对准光刻机系统EVG ® 620 NT提供国家的本领域掩模对准技术在小化的占位面积，支持高达150毫米晶圆尺寸。

EVG610-单面、双面光刻系统 雷竞技推单 EVG®610是一款紧凑型多功能研发系统，可处理零碎片和大200 mm的晶圆。

EVG6200 NT掩模对准光刻系统 特色：EVG ® 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。

IQ Aligner 自动掩模对准系统 用于自动非接触近距离掩模对准光刻，进行了处理和优化，用于晶圆片的尺寸高达200毫米。

研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工。$nEVG101光刻胶匀胶机在单室设计上可以满足研发工作，与EVG的自动化系统*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圆，可配置为旋涂或喷涂和显影。