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EVG810 LT低温等离子活化系统用于SOI，MEMS，化合物半导体和高级衬底键合的低温等离子体活化系统
一、简介
EVG810 LT （LowTemp™）低温等离子活化系统是一个独立单腔室系统，具有手动操作功能。 处理室允许非原位处理（晶片一个接一个地激活并且键合在等离子体活化室外部）。
二、特征
用于低温键合的表面等离子体活化（熔合/分子和中间层键合）
任何晶圆键合机制的快动力学
无需湿法工艺
低温退火时的高键合强度（z高400°C）
适用于SOI，MEMS，化合物半导体和先进封装
高度的材料兼容性（包括CMOS）
三、EVG810 LT低温等离子活化系统参数
1.晶圆尺寸：50-200mm，100-300mm
2.低温等离子活化腔：
工艺气体：2种标准工艺气体（N2和O2）
通用大流量控制器：自校准（高达20.000 sccm）
真空系统：0.09 mbar
打开/关闭腔室：自动化
装载/卸载腔室：手动（晶圆/基板放置在装载销上）
3.备选功能：
用于不同的晶圆尺寸的夹头
金属离子激活
带有气体混合的附加工艺气体
带涡轮泵的高真空系统：0.009 mbar的基础气压
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