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在实验室中,许多操作都要求精确、快速,且不能出错。但是,一些常规的实验步骤,如去胶,往往需要耗费大量时间和人力。然而,随着等离子去胶技术的出现,这一难题得到了有效的解决。等离子去胶技术以其特殊的优势,大大简化了实验流程,提高了实验效率。一、...
白光干涉仪目前在3D检测领域是精度高的测量仪器之一,在同等系统放大倍率下检测精度和重复精度都高于共聚焦显微镜和聚焦成像显微镜,在一些纳米级和亚纳米级的超精密加工领域,除了白光干涉仪,其它的仪器无法达到其测量精度要求。仪器的测量原理:本仪器是利用光学干涉原理研制开发的超精密表面轮廓测量仪器。照明光束经半反半透分光镜分威两束光,分别投射到样品表面和参考镜表面。从两个表面反射的两束光再次通过分光镜后合成一束光,并由成像系统在CCD相机感光面形成两个叠加的像。由于两束光相互干涉,在C...
接触式光刻机是一种用于信息科学与系统科学、能源科学技术、电子与通信技术领域的工艺试验仪器,于2016年7月12日启用。接触式光刻机的使用原理:其实在我国对于接触式光刻机,曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上,其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。我们也许不知道接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1gm的特征尺寸,常用的光源分辨率为0.5gm左右。该设备的掩模版包括了要复制到衬底上的所有芯片阵列图形。在衬底上涂上光刻胶,并被安装到一个由手动控制的台子上,台子...
电容位移传感器的原理是利用力学变化使电容器中其中的一个参数发生变化的方法实现信号的变化的。该传感器由目标和探针两个传感板组成电容器。当电容器之间的距离发生改变时,电容器的电容量就会发生改变,使用适当的控制器就会测出两个传感板距离的变化。测量原理特性:采用电容式测量原理,需要洁净和干燥的环境,否则传感器探头和被测物体之间的物质介电常数的变化会影响测量结果。我们也推荐任何时候,都尽量缩短探头到控制器之间的电缆长度。对于标准设备,配备前置放大器,电缆长度设定为1m。如果配备外置放大...
掩模对准曝光机的试验方法:1、环境条件检查:a、温度、相对湿度检查:试验期间,用精度不低于1级的干湿球湿度计每4h测试一次环境的温度,相对湿度。千湿球湿度计应置放在与工作台高度一致,没有气流的地方;b、洁净度检查:试验期间,每4h测试一次洁净度。选用测试精度能满足相应洁净度等级的光学粒子计数器检测有效工作区域的洁净度;c、地面振动检查:试验期间,测试一次地面振动幅度,振动分析仪的拾振装置应置放于工作台机座附近。2、外观检查:a、用目视法进行外观质量检查;b、用手感方法检查移动...
电容位移传感器是一种非接触电容式原理的精密测量仪器,具有一般非接触式仪器所共有的无磨擦、无损磨特点外,还具有信噪比大,灵敏度高,零漂小,频响宽,非线性小,精度稳定性好,抗电磁干扰能力强和使用操作方便等优点。在国内研究所,高等院校、工厂和军工部门得到广泛应用,成为科研、教学和生产中一种*的测试仪器。本产品基于平板电容原理。电容的两极分别是传感器和与之相对的被测物体。如果有稳定交流电通过传感器,输出交流电的电压会与传感器到被测物体之间的距离成正比关系,从而可以通过测量电压的变化得...