光学形貌仪可以用于测量表面形貌或测量表面轮廓外，表面形貌仪具有测量晶圆翘曲度的功能，非常适合晶圆，太阳能电池和玻璃面板的翘曲度测量，应变测量以及表面形貌测量。应用领域：1、用于太阳能电池测量；2、用于半导体晶圆测量；3、用于机械部件的计量；4、用于镀膜玻璃的平整度（Flatness）测量；5、用于塑料，金属和其他复合型材料工件的测量。产品特色：1、除了表面形貌的测量，还可以测量张量和应力（简单）；2、可测量晶圆的尺寸为0.5''到12'',可达45x45cm的尺寸，对于小于0...

奥地利弗洛里安报道—EVGroup（EVG）的创始人AyaMariaundDIErichThallner昨晚傍晚因其毕生的工作而获得了享有声望的“PEGASUSinKristall”终身成就奖。这项特别奖是在林茨布鲁克纳豪斯工业大学获得商业奖的颁奖典礼上颁发的，该奖项每年都表彰上奥地利州的企业家。图1终身成就奖奖杯1.EVG地位自EVG于1980年成立以来，大胆创新的思维以及对开发领仙的高质量制造系统的承诺为EVG作为半导体行业和相关市场的领仙设备和工艺解决方案的领仙供应商成...

2021年3月17日，上海新国际博览中心报道，雷竞技下载App官网 在化合物半导体展区N2馆2828号展位拉开了SEMICON2021半导体年度展会的序幕。现场人头涌动，热闹非凡。雷竞技下载App官网 的工程师们与参观者进行了深入的沟通和交流。展会现场现场参观者提出了一个又一个专业的问题：1.“你们的膜厚测量设备的测量精度是多少？”膜厚仪演示中2.“晶圆键合机的测量原理是怎么样的？”晶圆键合机展台3.“轮廓仪都能测量哪些数据？”轮廓仪调试中4.“应力测量仪是如何测量应力的？”我们不只是有FSM1285....

接触式光刻机的核心原理就是一个透镜组，在精度上首先咱们有个概念：我们现在芯片的线条精度已发展到10nm级别，而较大的原子直径是将近1nm，我们把芯片放在电子显微镜下即可清晰地数出每个线条上有几个原子，“调节屈光度”是典型的几何光学（初等光学）概念，远远实现不了这个精度。接触式光刻机的曝光方式：主要有三种，分别是接触式曝光、非接触式曝光和投影式曝光。1、接触式曝光：就是将掩膜与还没加工基片的光胶层直接接触并进行的曝光；2、非接触式曝光：是指掩膜和基片的光胶层不直接接触来实现图形...

3D划痕仪使用了超新的划痕头和高分辨率的3D形貌仪，能够让用户进行标准的划痕测试，并在测试前后自动进行亚纳米级的3D成像。可应用在划痕试验用于评估涂层和固体表面的粘附性和耐刮擦性。测试在受控的力下对样品表面进行划擦，划痕头在递增、恒定或台阶增力的载荷下沿着样品表面移动。通过检测摩擦力、位移和声发射等信号以及利用3D成像技术来检测涂层破损。目前产品可测试透明、非透明、硬质涂层、生物材料、装饰涂料、光纤材料等，加载力范围涵盖微米级至宏观级别。检测结果主要包括机械性能（附着力、摩擦...